台积电表示,开发中的A16芯片制造技术无需依赖ASML的最新高数值孔径极紫外光刻(high-NA EUV)设备。
技术与成本评估:在阿姆斯特丹的一场会议上,台积电业务开发资深副总裁张晓强指出,尽管高high-NA EUV技术可以将芯片设计尺寸缩小三分之二,但其高昂的成本和现有技术的可靠性是公司需要权衡的因素。台积电是ASML现有EUV机器的最大用户,这些设备的成本为2亿欧元,而新型高NA设备的价格超过3.5亿欧元。
产业影响:ASML作为欧洲最大的科技公司,在光刻系统市场占有主导地位,这些系统利用光束来创建芯片的电路。光刻技术是芯片制造中提升性能的关键技术之一,也是芯片设计尺寸能达到的限制因素。