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日本科技巨頭佳能最近宣布推出了一項挑戰行業領導者ASML的重要技術，這項技術被稱為納米壓印光刻（NIL）。這一舉措標誌著佳能進入了半導體製造的競爭領域，並意在打破ASML在高端芯片製造市場上的霸主地位。ASML是荷蘭公司，以其極紫外光（EUV）光刻機聞名，該技術是製造當今最先進芯片所必不可少的關鍵。
荷蘭半導體設備製造商ASML成功研發出新的高NA-EUV光刻機，並在加州舉行的SPIE光刻會議上宣布了這一重大進展。該公司已確認了這項成就，這對半導體製造行業意義重大。
高NA-EUV光刻機是一項突破性的技術，預計將在2025年投入量產。ASML的這一成就意味著該公司在尖端技術方面的領先地位得
ASML公司預計由於人工智慧的崛起，將有更多對其先進晶片機器的需求。
ASML在2023年第四季度收到了創紀錄的訂單量，導致股價飆漲至歷史新高。
雖然ASML面臨一些挑戰，如大客戶訂單延遲和荷蘭對中國出口管制政策的影響，但公司仍持續獲得來自中國等地的大量訂單
荷蘭政府致力於確保ASML公司留在荷蘭，並積極制定名為「貝多芬計劃」的策略以回應ASML對荷蘭投資環境的擔憂。部門合作制定計劃，願景是確保ASML在荷蘭的地位。荷蘭面臨投資環境挑戰，包括對資格員工的短缺和投資下降。
