ASML在首台HIGH NA EUV設備上達成了新里程碑
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荷蘭半導體設備製造商ASML成功研發出新的高NA-EUV光刻機，並在加州舉行的SPIE光刻會議上宣布了這一重大進展。該公司已確認了這項成就，這對半導體製造行業意義重大。
高NA-EUV光刻機是一項突破性的技術，預計將在2025年投入量產。ASML的這一成就意味著該公司在尖端技術方面的領先地位得到了進一步的巩固。
這款光刻機的首次亮相象征著一個新時代的開始，儘管它的性能還未完全達到預期，但這一里程碑標誌著科技界的一次重大進步。
除了ASML外，英特爾也在俄勒岡州的工廠組裝其首台高NA測試機。其他先進芯片製造商，包括台積電和三星，也計劃在未來五年內使用這種光刻機。這將促進下一代更小更快的芯片的開發和生產。
對於半導體行業來說，高NA-EUV光刻機的問世是一個重大的里程碑，將推動整個行業向前邁進，為未來的科技發展打下堅實的基礎。
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