日本科技巨頭佳能最近宣布推出了一項挑戰行業領導者ASML的重要技術，這項技術被稱為納米壓印光刻（NIL）。這一舉措標誌著佳能進入了半導體製造的競爭領域，並意在打破ASML在高端芯片製造市場上的霸主地位。ASML是荷蘭公司，以其極紫外光（EUV）光刻機聞名，該技術是製造當今最先進芯片所必不可少的關鍵。
相較於ASML的光學投影技術，佳能的NIL技術採用類似壓印的方法在晶圓上印製電路圖案。佳能表示，這種壓印技術更能忠實地再現電路圖案，並能夠形成複雜的二維或三維圖案。而且，佳能的機器不需要高度複雜、耗電量大的光源，從而降低了能源消耗。佳能的前期價格和運營成本預計將遠低於ASML的EUV機器，這使得其技術更具有競爭優勢。
雖然佳能的NIL系統可能對ASML構成長期威脅，但在短期內並不會迅速改變現狀。目前，台積電、三星和英特爾等ASML的頂級客戶都已經投資於使用EUV系統，並不會突然轉向佳能的NIL系統。此外，NIL系統的採用率一直偏低，原因在於製造過程中可能出現的缺陷問題。
然而，隨著技術的不斷改進，NIL系統的缺陷問題可能會得到解決，佳能的商業推出表明這一時刻可能已經到來。如果更多的晶圓廠開始認真對待佳能的NIL系統，或者如果佳能的系統成本顯著低於ASML的EUV系統，則佳能有望取得更多市場份額。
佳能的技術旨在印製5納米和2納米的芯片，這是ASML目前的EUV技術無法實現的。隨著台積電和三星等主要芯片製造商計劃在2025年製造2納米芯片，佳能的NIL技術有望成為一個具有重大影響的競爭對手。
總的來說，佳能的NIL技術是對ASML在高端芯片製造市場上的重大挑戰，雖然目前還無法確定其是否能夠完全顛覆ASML的地位，但其商業推出無疑為整個行業帶來了更多的競爭與刺激。
