
PVD是利用電弧或電漿的物理能量轟擊位於陰極靶材的表面，使得靶材的原子獲得動能溢出並附著欲鍍膜的基板上，因此靶材又分為電弧靶與濺鍍靶(電漿靶)，材質通常為99.99%以上的純金屬或化合物，外型上有圓形、正方形、長條型或管狀。


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鑒於多數產品開發屬於連續製程，常需串連各類成形工法達成客戶要求，當前成形技術研究大都著重單點項目，以鍛造、沖壓、加工為主；因此將整合各項固態金屬成形技術與資源(涵蓋鍛造、擠型、軋延、抽製、旋壓/鍛、沖壓、液壓鼓脹、CAE)，協助在職者或有興趣的朋友一同深入討論。