半導體材料簡介及應用

閱讀時間約 3 分鐘
█半導體材料結構
半導體材料大體可分成三大區塊,即單晶、多晶、非晶。
█半導體材料之應用
●薄膜電晶體(TFT)面板
控制每一個畫素開關的薄膜電晶體(TFT)是先使用化學氣相沉積(CVD)
在玻璃上方成長一層非晶矽,再將TFT製作在非晶矽上方,因為玻璃基板
是「非晶」所以製作在上面的薄膜電晶體也是「非晶」。
TFT的分類可以分為a-Si TFT(非晶矽)、LTPS TFT(低溫多晶矽),
HTPS(高溫多晶矽) ,IGZO TFT(Oxide TFT)。
1. 氧化銦鎵鋅IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide)
是一種薄膜電晶體技術,在TFT-LCD主動層之上,打上一層金屬氧化物。
IGZO技術由夏普(Sharp)與日本半導體能源研究所共同開發的產品。
其結構如下圖:
2.低溫多晶矽(Low Temperature Poly-silicon;簡稱LTPS)
薄膜電晶體液晶顯示器是在封裝過程中,利用準分子雷射作為熱源,
雷射經過投射系統後,會產生能量均勻分布的雷射光束,投射於非晶矽
結構的玻璃基板上,當非晶矽結構玻璃基板吸收準分子鐳射的能量後,
會轉變成為多晶矽結構,因整個處理過程都是在600℃以下完成,
故一般玻璃基板皆可適用LTPS技術。
此外,LTPS還是發展AMOLED的最佳技術平台。
3. a-Si TFT(非晶矽)
非晶矽薄膜電晶體(a-Si:H TFT--amorphous silicon thin film transistor)
溝道採用非晶矽材料製成,非晶矽薄膜電晶體在結構和工作原理上和
一般的MOSFET相似。具有MOS結構,並且也是場效應電晶體。
柵極在非晶矽中感應溝道,並在源漏偏壓下導電。
4. HTPS(高溫多晶矽)
HTPS是High Temperature Poly-Silicon(高溫多晶矽)的簡稱,
它是有源矩陣驅動方式的透過型LCD。 具有小型、高精細、高對比度、
驅動器可內置等特點。製造方法與半導體大致相同,由於經過高溫處理,容易實現細微化(多像素、高 開口率 );同時,由於能夠在基板上生成驅動器,因此具有小型、高可靠性的特點。 HTPS的應用領域,通常都是用來做為放大型的顯示產品。例如液晶投影機、背投影電視等。一般來說,手機或是計算機的LCD屏幕,都是屬於直視型,也就是使用者可以直接觀看屏幕並讀取信息。HTPS雖然也是TFT的一種,但無法直接用於手機或計算機屏幕等用途。
HTPS LCD的應用大致分為下列三種:OHD(Over Head Display)、Helmet及LV(Light Valve)。其主要用途介紹如下:
OHD:抬頭顯示器,將影像投影在擋風玻璃上(或是透明玻璃),用在汽車或是飛機上,在許多空戰片當中可以一窺其面貌;
Helmet:此處是指專門用在虛擬幻境(Virtual Reality)頭盔里之顯像;
LV:可翻譯成光閥。當HTPS在液晶投影機中動作的時候,由於所有的光線都會透過HTPS,並由HTPS來決定光穿透的程度,因此,它被稱為「光之閥門」。
●太陽能電池
●半導體
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