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[002]美國半導體禁令下，曝光機設備大廠的應對：Nikon，Canon，ASML

近期，晶片領域發生變化。中國的晶片需求龐大，尼康和佳能看中了中國市場的機遇，向中國市場出售曝光機，開啟合作。

尼康和佳能曾在1990年代主導半導體市場，但在極紫外曝光機的競爭中敗給ASML。

日本半導體業在遭受美國打壓後，尼康和佳能不得不選擇暫時妥協，但他們並沒有放棄對先進技術的追求,在曝光機領域仍然有著自己的創新和突破。

向中國出售曝光機，幫助中國提升晶片技術水平。雖然是為了應對困境，但也為中日科技合作帶來新的契機。尼康推出RF浸潤式7nm曝光機，佳能則在不使用EUV技術的情況下達到了5nm技術水平，保持了創新和競爭力。

日本尼康和佳能在拿下中方光刻機30台訂單後，荷蘭的ASML對中國態度變暧昧。曝光機是晶片製造核心，其發展牽動科技舞台主導權。

ASML在中國市場的表現優越，其銷售額在全球銷售中的比重不斷上升。

隨著晶片在各領域的重要性提升，人們對晶片製造關注增加。製造過程中，高階曝光機不可或缺，其高度先進和價格昂貴。

晶片製造的關鍵設備——曝光機，在製程中發揮核心作用。高階曝光機具有高度精密的光學系統和先進的控制技術，能實現微米至奈米級的圖案轉移。然而，曝光機不僅僅是技術上的挑戰，更牽涉到國際政治因素。美國、日本、荷蘭三方簽署協議，試圖限制對中國的曝光機出口。但中國市場龐大，各企業仍積極出貨，繞過限制。

尼康和佳能計劃在中國市場推出新一代曝光機，以重新進入中國市場並擴大業務。這項舉措雖然面臨風險，但對於兩家公司來說，中國市場仍然是一個巨大的機會。

然而，中日晶片競爭仍在進行中，ASML取消對中國的曝光機出口許可證，使得局勢更加複雜。隨著中國對晶片需求的不斷增加，這場競爭和合作的博弈將持續瞬息萬變。