案例:應用動態SN田口方法,進行研究較低價的『非平行曝光機』取代昂貴『平行曝光機』
【註:曝光機大量應用在黃光製程,應用於PCB印刷電路板、FPCB軟性印刷電路板、TFT-LCD、半導體、Color Filter、…】
因此公司導入田口品質工程,應用動態SN比,進行『先行性技術開發』,成功的使用非平行曝光機取代昂貴的平行曝光機,取得IBM訂單
【註: 先行性 技術開發對曝光機設備言,就是透過參數設計及應用動態SN比進行分析,對抗干擾造成PCB上的線路變異,提升線路(線寬/線距….)的穩定性,研究與挑戰該設備的極限】
