ASML設備輸陸 最快月底擴大管制
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荷蘭將祭半導體出口新禁令，DUV估受衝擊
半導體產業是當今科技發展的核心驅動力，也是各國爭奪競爭優勢的關鍵領域。然而，在中美貿易戰和疫情衝擊下，全球半導體供應鏈面臨嚴峻挑戰，各方都在加緊布局自主產業鏈，以確保半導體安全。
在這樣的背景下，荷蘭政府可能最早在6月30日祭出新一波對中國的半導體設備出口禁令，相關禁令將擴大限制微影設備巨頭艾司摩爾（ASML）出口產品至中國，預計浸潤式深紫外光（DUV）相關設備將受衝擊。
這對中國半導體產業意味著什麼？荷蘭的出口管制又是基於什麼考量？本文將從以下幾個方面來分析：
- 艾司摩爾的微影設備為何如此重要？
- 荷蘭的出口管制措施有哪些內容和影響？
- 中國半導體產業如何應對荷蘭的出口管制？
正文
艾司摩爾的微影設備為何如此重要？
艾司摩爾是全球最大的微影設備製造商，其產品涵蓋了極紫外光（EUV）、浸潤式深紫外光（DUV）和乾式深紫外光（Dry DUV）等各種技術，廣泛應用於半導體製程中。其中，EUV和DUV是目前最先進的微影技術，能夠製造出更小、更快、更省電的晶片。
EUV是最高階的微影技術，能夠實現7奈米以下的製程節點，目前只有艾司摩爾能夠提供EUV設備，並且只有三星和台積電能夠使用EUV設備進行量產。由於EUV技術的難度和成本非常高，目前中國還沒有企業能夠掌握EUV技術，也沒有獲得艾司摩爾的EUV設備。
DUV是次高階的微影技術，能夠實現14奈米到7奈米之間的製程節點，目前艾司摩爾在DUV市場佔有超過80%的份額，其競爭對手主要是日本的日立和佳能。由於DUV技術相對成熟和穩定，目前中國有多家企業能夠使用DUV技術進行生產，例如中芯國際、華力微、長電科技等。其中，中芯國際已經實現了14奈米製程的量產，並且計劃在2022年實現7奈米製程的試產。
可以看出，艾司摩爾的微影設備對於半導體產業的發展至關重要，尤其是DUV設備，是中國半導體產業追趕先進製程的關鍵。如果荷蘭限制艾司摩爾向中國出口DUV設備，勢必會打亂中國半導體產業的發展計劃，造成不小的困難和挑
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為全球半導體設備領導廠商，屬於半導體設備、先進製程概念股。
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荷蘭半導體設備製造商ASML成功研發出新的高NA-EUV光刻機，並在加州舉行的SPIE光刻會議上宣布了這一重大進展。該公司已確認了這項成就，這對半導體製造行業意義重大。
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