CES展中，黃仁勳說明散熱未來發展趨勢，原先資料中心仰賴冰水機將水溫降低至7~12°C，以此來對伺服器進行散熱，然而在新型的資料中心設計之下，可使用45°C的接近常溫水即可對溫度高達80°C以上的晶片進行散熱，冰水機將不再是水冷系統當中必備組件。
採用冰水機的資料中心，PUE約莫落於1.5~2.0，使資料中心耗電居高不下，不符合目前節電目標，在取消冰水機設計之下仍可透過兩套冷卻液迴路系統，將帶有高熱能的冷卻液帶至資料中心外部以冷卻水塔散熱，仰賴晶片高熱量產生，流出伺服器機櫃冷卻水溫高達80°C以上，與接近室溫的45°C仍有明顯差距，使熱交換效率保持穩定，並且在系統配置無須冰水機配置，可望將資料中心PUE降至1.1~1.3之間，顯著低於採用冰水機方案。
即便取消冰水機配置，對於水冷板、快接頭、分歧管等被動式散熱元件採用仍無直接衝突，在Vera Rubin熱功耗提升、伺服器取消風扇並提升密度下，將推動水對水散熱系統重要性逐步提升，加速取代過渡時期的水對氣系統，相關受惠個股包括在水對水CDU的領導廠商Vertiv，台廠方面則為旗下1.3MW CDU已經通過Nvidia認證並且擁有緯創、鴻海部分出貨實績的元鈦科(7892)，以及廣運(6125)旗下金運科技也同步切入水冷機房設計與CDU生產業務。
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