問：公司 EML 晶片的性能與良率水平如何？與行業競爭對手相比處於什麼位置？
答：在性能方面，公司 EML 晶片初期在電吸收調製器消光比指標上與博通（Broadcom）、Lumentum、住友（Sumitomo）等主流競品確實存在差距，但經過針對性的參數優化後，目前的差異已大幅縮小，並達到規模化量產的穩定水平。良率方面，EML 晶片製程包含 300 多道工序，行業內國產廠商良率達到 50% 以上即為合格，60% 高於平均，70% 以上則屬世界一流。目前 Lumentum 與住友等廠商的良率約在 60% 左右，公司的良率則處於行業中上水平。一般而言，電晶片的良率普遍高於光晶片，而在光晶片中，CW laser（連續波雷射器）晶片的良率通常可達 80% 以上。
