摘要
本報告探討美國對中國EDA工具限制的影響，指出中國現有設計和生產仍可使用舊版EDA許可證，但未來新設計將受影響。報告提到，此限制可能加速中國客戶採用本土EDA工具，如Empyrean可能受益，同時也影響中國客戶使用台積電2奈米製程的能力。此外，小米推出自研3奈米晶片，但未來2奈米設計可能面臨挑戰，且其成本結構可能難以與主流市場競爭。
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外資大摩MS看美國對中國EDA工具限制的影響
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